Tên bài báo: |
Comparative analysis of the influence of low-energy hydrogen and helium ion-beam treatments on the structural and electrical properties of CzSi wafers |
Tạp chí: |
ISSN: |
|
Tên tạp chí |
Przeglad Elektrotechniczny
(0033-2097)
|
Tạp chí |
Nước ngoài |
Cơ quan xuất bản |
Bentham Science Publishers B.V. |
Loại tạp chí |
Tạp chí |
Cấp tạp chí |
SCOPUS |
Năm đăng: |
2010 |
Tập: |
86 |
Số: |
7 |
Trang: |
211-214 |
|
Lĩnh vực: |
KỸ THUẬT ĐIỆN, KỸ THUẬT ĐIỆN TỬ, KỸ THUẬT THÔNG TIN |
Tác giả: |
O. Zinchuk (Chính), Alexander K Fedotov, Ngô Xuân Cường, Alexander Mazanik
|
Thuộc đề tài: |
0
|